磁控濺射鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷等行業(yè)

磁控濺射鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。該系列設備主要采用直流（或中頻）磁控濺射，可用于銅、鈦、鉻、不銹鋼、鎳等多種金屬材料的涂層靶材。采用濺射工藝可以對薄膜進(jìn)行鍍膜，可以提高薄膜的附著(zhù)力、重復性、密度、均勻性等特性。

可利用時(shí)間控制薄膜厚度滿(mǎn)足設計工藝要求，節省晶控和光控環(huán)節，為客戶(hù)節省大量膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜可用于多種用途；*利裝置自動(dòng)調節氣體流量，保持目標電壓穩定，保證成膜質(zhì)量；可選配校正板外調節機構。

磁控濺射鍍膜機的濺射沉積系統在側壁上安裝了多個(gè)圓柱形靶，以提高沉積速率和多層鍍膜。該系統采用直流脈沖或射頻功率的圓形陰極。垂直安裝的基板和圓柱形陰極減少了鍍膜過(guò)程中的顆粒污染。Ar膜（基片玻璃透過(guò)率>91.5%），420-680nm波段，單面平均透過(guò)率>95%，反射率小于0.5（平均值）%；雙面平均透過(guò)率>98%，反射率小于0.5（平均值）%；彩色膜或漸變色膜：根據客戶(hù)樣品，任意位置裝膜或滿(mǎn)爐連續5爐，1.2；沸騰試驗：80℃沸騰30min，3M網(wǎng)格試驗（1*1mm），大于4B。